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LCD 디스플레이의 유형
Apr 17, 2017

일반적으로 LCD 디스플레이는 Twistwd 네마 틱 액정 (TN-LCD), 슈퍼 트위스트 네마 틱 액정 (STN-LCD), 박막 트랜지스터 LCD (TFT-LCD) 및 저온 TN 및 STN은 사실 LCD 유형이며, TFT 및 LTPS는 다른 스위치 구성 요소이다. 초기의 흑백 LCD 패널은 수동 매트릭스이기 때문에, TN (Tetra-Polysilicon Silicon-Liquid Crystal Display) STN이 나타나고 이제 우리는 그들의 차이점을 소개하고 있습니다.

TN-LCD

비틀린 네마 틱 액정 (TN) 분자는 2 개의 도전성 유리 사이의 층으로 분할되고, 액정 분자의 각 층은 하나의 각도로 회전하고, 액정 분자의 제 1 층 및 마지막 층은 "90 ° 미만의 각도로 회전한다. 각도의 분자 회전의 각 층의 열 유형 액정 (tn)에 비틀림은 작다, 우리가 전압을 적용 할 때, 우리가이 액정 분자를 "에너지는 더 낮고, 비교적 안정되어있다"칭한다 화학 관점에서, LCD는 서있을 것이다 "유리 분자 위에 놓여 있고, 매우 안정되고 편안하다"는 것처럼 상대적으로 안정한 TN 분자는 외부 전압 반응에 의해 느려지므로 글래스 위에서는 데 오랜 시간이 걸리고, 흑백 반응 속도가 느리다.

장점 : 낮은 구동 전압, 낮은 전력 소비, 낮은 생산 비용.

단점 : 반응 속도가 느리고 잔여 그림자가 발생하여 흑백 디스플레이를 만들 때만 적합합니다.

신청 : 전자 미터, 전자 계산기, 전자 사전.

STN-LCD

슈퍼 트위스트 네마 틱 액정 (STN) 분자는 두 조각의 유리 사이에 여러 층으로 나뉘어지며, 각 층의 액정 분자는 각도를 회전하고 액정 분자의 첫 번째 층과 마지막 층은 "회전 각 도 5의 (b)에 도시 된 바와 같이, 90도 (180도 ~ 240도)보다 크다. 분자 회전 각의 각 층의 슈퍼 트위스트 네마 틱 액정 (STN)은 화학적 관점에서 비교적 크다 우리가 이것을 "고 에너지, 덜 안정성"이라고 부르는 액정 분자는 전압을 가했을 때 LCD가 유리 위에 놓이고 분자처럼 불안정한 STN 분자는 유리 안에 스쿼트가 매우 불안정하고 불편하므로 적용된 전압을 반응에 비하면 신속하게 유리 위에 서서 액정 표시 반응 속도가 빨라진다.

장점 : 반응 속도가 TN보다 빠르기 때문에 TFT가 쉬워진다.

단점 : 반응 속도는 아직 충분히 빠르지 않으며 그레이 스케일이나 하이 컬러 디스플레이에만 적합합니다.

응용 분야 : 컬러 휴대폰, 컬러 개인용 정보 단말기 (PDA), 디지털 카메라.

TFT-LCD

각 픽셀의 박막 트랜지스터 (TFT) 제어는 유리 위에 직접 제작되며 위의 비정질 실리콘 위에 제조 된 박막 트랜지스터 (TFT) 위의 유리 위에 비정질 실리콘 층을 화학 증기 증착 (CVD)으로 성장시킵니다. 유리 기판은 "비정질"이므로 위의 스위치를 "비정질"로 만듭니다. 유리 전이 온도 "(Trnasition temperature)"는 약 300 ℃이고, 변태 온도는 실제로 "연화 온도"이며, 300 ℃까지 가열되면 유리가 연화되기 시작하여 공정 온도는 300 ℃를 초과 할 수 없으며, 또는 소프트 오프 유리. "비정질 실리콘의 저온 (저온 비결정질) (저온 비정질 실리콘)"으로 알려진 "비정질 실리콘"(TFT)을 제조하는 유리 위의 박막 트랜지스터에서 화학 기상 증착 (CVD)을 사용하는 조건 하에서 300 ℃ 미만의 온도 공정에서, 실리콘) "은 우리가"박막 트랜지스터 액정 디스플레이 (TFT LCD) "라고 부르는 것입니다. 저온 비정질 실리콘 공정을 사용합니다.

장점 : 반응 속도는 STN보다 빠르며 풀 컬러 디스플레이를 만들 수 있습니다.

단점 : 박막 트랜지스터 생산 어려움, STN 높은 전도성, 비결 정성 실리콘보다 더 많은 비용, 그래서 구동 전압이 높다, 비정질 실리콘 전도성은 높은 전력 소모, 비정질 실리콘 박막 트랜지스터가 크고 낮은 개방 속도가 좋지 않다.

응용 : 풀 컬러 LCD, 노트북 컴퓨터, LCD TV.

사실, 폴리 실리콘 생산 모니터의 사용은 "고온 폴리 실리콘 (HTPS)"과 "저온 폴리 실리콘 (LTPS)"으로 나눌 수 있습니다. 두 종류 :

고온 폴리 실리콘

비정질 실리콘 (TFT), 불량한 전도성, 느린 작업 속도를 사용하여 제작 된 박막 트랜지스터 때문에 작업 속도를 높이려면 유리가 무정형이기 때문에 "실리콘"을 최상으로 사용해야합니다. 과학자들은 비정질 실리콘의 유리 기판에서 성장할 수 없다고 생각한다. 과학자들은 고체 재료 온도 인 어닐링 (Anneal)을 사용하고, 다결정을 형성하면서 천천히 냉각시키는 것이 좋다. 우리는 "유리 및 비정질 실리콘 박막"을 고온로에 넣고 600 ℃로 가열 한 다음 천천히 실온으로 냉각 시키면 "고온 폴리 실리콘"이라고 불리는 다결정 실리콘 박막의 "공정"이 될 수 있습니다 (HTPS) ".

약 300 ℃의 유리 전이 온도, 600 ℃까지의 유리 가열은 연화되기 시작하여, 고온 폴리 실리콘 (HTPS) 공정에서 기판이 도전성 유리 "유리 (유리)"가되어야하므로 유리를 사용할 수 없다. 석영 (Quartz "the crystal")은 실리카이고 최고 1200 ℃의 고 용융 온도이지만 가격이 높고 석영의 크기가 크면 기하 급수적으로 증가한다. 다이아몬드처럼), 고온 폴리 실리콘 (HTPS)은 대형 LCD 디스플레이에서 사용할 수 없기 때문에 초기에는 고해상도의 투사 디스플레이, 소형 LCD 패널, 일반적으로 3 인치 미만의 LCD에 사용됩니다. 투사 표시에 대해서는 후술한다.

저온 폴리 실리콘

위의 도입으로 사실은 발견하기 어렵지 않다, 우리는 "어닐링 (Anneal)"은 전체 가열 고온로에 대한 박막 트랜지스터 (TFT), 유리 기판 및 박막 트랜지스터의 일부일뿐입니다 어리석은, 당신은 생각하고 볼 수 있습니다, 어떤 방법은 낮은 온도에서 유리 기판을 유지할 수있는 박막 트랜지스터를 가열 수 있습니까? 영리 과학자들은 렌즈에 고 에너지 레이저 입사를 사용하여 레이저 어닐링 노에 레이저 어닐링 (레이저 어닐링)이라는 "유리 및 비정질 실리콘 박막"이라는 새로운 기술을 발명 한 후 비정질 실리콘 필름 가열에 집중하여 600 ℃로 가열합니다. ° C, 그리고 천천히 실온으로 냉각, 당신은 레이저 어닐링 용광로 냉각수 아래에 "폴리 실리콘 필름"이 될 수있는, 유리 기판은 300도 이하의 온도에서 유지할 수 있습니다, 어떻게 당신 같은 간단한 방법입니다 생각하지 않았 니?

장점 : 가장 빠른 반응 속도, 다결정 실리콘의 전도성이 좋으므로 구동 전압이 낮고 다결정 실리콘 박막 트랜지스터가 작아서 개방 율이 높습니다.

단점 : 레이저 어닐링 기술은 성숙하지 않고 제품 수율이 낮습니다.

응용 프로그램 : 풀 컬러 LCD, 노트북 컴퓨터, LCD TV.